9784621300985 丸善出版 薄膜工学/日本学術振興会の高価買取価格
本書は、日本学術振興会・薄膜第131委員会が編纂した「薄膜工学」の決定版ともいえる専門書です。
半導体、ディスプレイ、記録媒体、光学素子など、現代のハイテク産業を支える基盤技術である「薄膜」について、その基礎から最新の応用技術までを網羅的に解説しています。
主な内容として、薄膜の作製法(真空蒸着、スパッタリング、CVDなど)、成長機構、物性評価、そしてデバイスへの応用例まで、各分野の第一線で活躍する専門家たちが執筆。第3版となる本作では、近年の技術革新に伴う最新の知見が大幅に加筆・修正されており、研究者や技術者にとって欠かせない一冊となっています。
学生のテキストとしてはもちろん、現場のエンジニアが実務で直面する課題解決のヒントを得るためのリファレンスとしても非常に価値が高い内容です。薄膜技術の全体像を体系的に学びたい方や、専門的な知識を深めたい方に自信を持っておすすめできる、信頼性の高い学術書です。
半導体、ディスプレイ、記録媒体、光学素子など、現代のハイテク産業を支える基盤技術である「薄膜」について、その基礎から最新の応用技術までを網羅的に解説しています。
主な内容として、薄膜の作製法(真空蒸着、スパッタリング、CVDなど)、成長機構、物性評価、そしてデバイスへの応用例まで、各分野の第一線で活躍する専門家たちが執筆。第3版となる本作では、近年の技術革新に伴う最新の知見が大幅に加筆・修正されており、研究者や技術者にとって欠かせない一冊となっています。
学生のテキストとしてはもちろん、現場のエンジニアが実務で直面する課題解決のヒントを得るためのリファレンスとしても非常に価値が高い内容です。薄膜技術の全体像を体系的に学びたい方や、専門的な知識を深めたい方に自信を持っておすすめできる、信頼性の高い学術書です。
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